半导体业态势迎来爆发式生产,未来芯片也会迎来长期的发展,而污水处理量也同步增加,大量的氨氮废水需要处理,这个问题是个难题,半导体废水氨氮超标处理方法有哪些呢?
常规处理的方法
1、蒸汽汽提法,蒸氨工艺将焦化工序产生的化工分离废水和剩余氨水进行蒸馏,通过蒸氨处理后,降低其NH3—N含量,为下一步生化处理进行必要的前期处理。
2、利用微生物的新陈代谢功能,将污水中呈溶解或胶体状态的有机物分解氧化为稳定的无机物质,使污水得到净化,常用的有活性污泥法和生物膜法。
3、空气吹脱法,吹脱工艺是将废水中的离子态铵(NH4+),通过调节pH值转化为分子态氨,随后被通入的空气或蒸汽吹出。
效率达标方法
为更好推进芯片发展,对于污水处理一定要有效率!而常规处理后污水一般为100ppm-500ppm之间,当工艺降幅无法达到排放标准时,投加氨氮去除剂是一种效率的方法。
氨氮去除剂在污水中投加能利用强氧化作用达到分解氨氮,5分钟反应,把污水中的氨氮从水体中快速去除,达标到0.02mg/L~50mg/L是没问题的。
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除镍剂适用行业:主要用于线路板、电镀等行业废水重金属镍离子的处理。该产品通过多种螯合基团对重金属离子螯合,产生疏水性结构而沉淀;同时,在体型结构的分子作用下,通过絮集和网捕作用提沉淀速度和去除率,从而摆脱了线性螯合沉淀的缺点。
希洁环保研发的复合型除臭剂,能对有害、臭味分子进行聚合、取代、置换、吸附等反应,从而有效去除硫化氢、甲烷、甲硫醇、氨气及其他挥发性有机物(VOC)等恶臭气体。
本产品是水溶性的分子聚合物。由于其分子链含有一定数量的极性基团,它能通过吸附水悬浮的固体粒子,使粒子间架桥或通过电荷和使粒子凝聚形成大的絮凝物。所以,它可加速悬浮液粒子的沉降,有非常明显的加快溶液澄清,过滤等果。
活性炭在水处理领域也是一种重要的处理药剂,它能有地祛除水多种有机和无机污染物,解决了许多废水处理的难题。活性炭是一种常用的吸附剂、催剂或催剂载体,很容易与空气或水的有毒有害物质充分接触,利用自身孔隙吸附将有害物质吸入孔内,使环境得到净。
希洁环保研发的消泡剂是用有较强抑泡能力的聚醚和疏水性强、破泡迅速的二甲基硅油为主要成分研发的一种新型消泡剂。
希洁的植物除臭剂,天然植物提取,浓度高,安全使用,除臭速度快,抑臭时间长!